深圳單片機開發(fā)方案公司英銳恩為你帶來芯資訊—中國單片機芯片產(chǎn)業(yè)設(shè)備繞過了相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)壁壘，國內(nèi)首臺超分辨力最高紫外超分辨光刻裝備誕生了。中科院光電所研發(fā)出這一臺突破傳統(tǒng)的光刻機，對單片機芯片產(chǎn)業(yè)來說是一次嘗試性的邁進。

  此次通過驗收的表面等離子體超分辨光刻裝備，打破了傳統(tǒng)路線格局，形成了一條全新的納米光學光刻技術(shù)路線，具有完全自主知識產(chǎn)權(quán)，為超材料/超表面、第三代光學器件、廣義芯片等變革性領(lǐng)域的跨越式發(fā)展提供了制造工具。光刻分辨力達到22納米，結(jié)合多重曝光技術(shù)后，可用于制造10納米級別的芯片。

  光刻機在365納米光源波長下，單次曝光最高線寬分辨力達到22納米。項目在原理上突破分辨力衍射極限，建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發(fā)新路線，繞過了國外相關(guān)知識產(chǎn)權(quán)壁壘。

  光刻機是制造芯片的核心裝備，采用類似照片沖印的技術(shù)，把一張巨大的電路設(shè)計圖縮印到小小的芯片上，光刻精度越高，芯片體積可以越小，性能也可以越高。但由于光波的衍射效應，光刻精度終將面臨極限。

  單片機芯片產(chǎn)業(yè)的生產(chǎn)過程中是需要不斷提高光刻精度的，這是全球的技術(shù)升級問題。深圳單片機開發(fā)方案公司英銳恩為中國取得這一突破萬分激動，同時也激勵著英銳恩不斷突破前進，做有價值的芯方案解決商。